超纯水是接近高纯度的水，即除了氢离子与氧离子，几乎没有任何其他电解质存在的水中。
       在制造处理过程后能尽可能将溶在水中或在水中散播的各种杂质除去，包含像是有机物、细菌、尘埃、氧化物等任何物质。
       根据半导体产业的发展，随着制程的开发，使得晶圆线路更加细致，所使用的清洗用水，也需要更加提升。
       为了介于以往的纯水名称，故命名为超纯水。电阻率约达到18.2MΩ-cm，几乎不能导电，依据电子行业超纯水标准，还有很多其他的指标要求。
       超纯水主要使用在晶圆洗净，将经过蚀刻之晶圆进行洗净，去除晶圆表面残留氢氟酸等溶液。经由多重过滤，离子交换，除气，逆渗透，紫外线，超滤，奈米滤，离子吸附过滤所产生超纯水。
       超纯水是为了研制超纯材料（半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等）应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水，其电阻率大于18 MΩ*cm，或接近18.3 MΩ*cm极限值（25℃）。简单得说就是几乎去除氧和氢以外所有原子的水 。这样的水是一般工艺很难达到的程度，理论上可以采用二级反渗透再经过串联的混合型交换树脂柱对二次反渗水进行处理，但是交换树脂的再生不便，质量难以保证。